L’année commence bien sur le Campus Bois, au sein de l’antenne d’Epinal de l’Institut Jean Lamour : le projet TALiSMAN, dont le budget total est de 2 051 866 EUR HT, bénéficiera d’un financement FEDER de 1 231 120 EUR HT, soit 60%.
Le projet sera mené à bien dans les locaux de l’ENSTIB, et plus précisément dans les laboratoires de l’équipe « Matériaux Biosourcés » de l’IJL dirigée par Vanessa FIERRO.
Quatre chercheurs postdoctoraux et un ingénieur de recherche, financés par le FEDER viendront renforcer cette équipe, fondée par Alain Celzard, actuellement chef du département N2EV de l’IJL.
Le projet TALiSMAN consiste à développer de nouveaux matériaux et méta matériaux pour des applications avancées, notamment : (i) adsorbants pour la séparation de gaz; (ii) isolants et super isolants thermiques; (iii) électrodes de super condensateurs et de piles à combustible; (iv) échangeurs de chaleur pour l’industrie agroalimentaire ; (v) matrice poreuses pour le confinement de matériaux à changement de phase ; (vi) méta matériaux pour des applications microondes et très hautes fréquences; (vii) catalyseurs pour la bio-raffinerie ; (vii) matériaux pour la production d’eau douce par évaporation solaire.
TALiSMAN est en adéquation avec l’un des axes prioritaires de la Région Lorraine : la vallée Européenne des matériaux, de l’énergie et des procédés. Le financement de TALiSMAN doit permettre de soutenir les recherches de l’Equipe Matériaux Biosourcés de l’IJL et renforcera en même temps l’attractivité du territoire des Vosges. En effet, TALiSMAN vise à compléter la plateforme de synthèse et de caractérisation de matériaux MATERLOR hébergée dans les locaux de l’ENSTIB, avec un budget dédié de 772 k€. MATERLOR est déjà une référence en France en ce qui concerne l’étude des matériaux poreux.
TALiSMAN est un projet structurant pour la recherche en Lorraine, qui accueillera de nombreux chercheurs qui viennent en Région, pour collaborer et participer à des projets avec l’équipe d’Epinal !
*Tannin and cArbon materiaLS and Metamaterials for Advanced applicatioNs
